ASML$1,665.86-3.68%

China rămâne departe de autonomia în litografie avansată, iar capacitatea sa de a dezvolta echipamente EUV (litografie cu ultraviolete extreme, esențială pentru cipuri de ultimă generație) ar fi comparabilă cu nivelul la care era ASML în 2004, potrivit unei note a unui analist UBS citate de Tom's Hardware. Implicația economică este că, în pofida investițiilor și a eforturilor de substituire a importurilor, China ar putea avea nevoie de ani buni până să ajungă la producție de volum cu echipamente comparabile cu cele occidentale.

Analistul UBS Francois-Xavier Bouvignies afirmă, într-o notă către clienți, că situația s-ar putea schimba în următorii doi până la cinci ani dacă firmele chineze vor începe să producă în masă sisteme de litografie DUV cu imersie (o generație anterioară EUV, dar încă importantă pentru noduri tehnologice mai vechi). Totuși, chiar și în acest scenariu, industria chineză a semiconductorilor ar rămâne „mult în urma” rivalilor occidentali, potrivit aceleiași evaluări, relatată de Bloomberg.

De ce litografia este blocajul major

Materialul subliniază că fotolitografia este, în general, cel mai complex și mai exigent proces individual din fabricația avansată de semiconductori. Un scanner modern trebuie să livreze simultan rezoluție, precizie de aliniere între straturi, control al focalizării, uniformitate și performanță stabilă, plus disponibilitate predictibilă (timp de funcționare) și nivel redus de defecte. Cu alte cuvinte, nu este suficient ca un echipament să funcționeze „în laborator”; trebuie să fie utilizabil în producție de masă, fără compromisuri care ar reduce drastic randamentul sau productivitatea.

În acest context, Tom’s Hardware notează că, istoric, pe măsură ce echipamentele au devenit mai complexe, doar ASML, Canon și Nikon au rămas producători relevanți, iar ASML este singurul furnizor de scanere EUV.

Ce se știe despre eforturile Chinei și unde lipsesc dovezile

Pe partea de echipamente pentru fabrici de cipuri (wafer fab tools), unele companii chineze au ajuns să livreze la scară industrială utilaje competitive pentru procese precum depunere chimică, curățare, gravare și oxidare/difuzie, folosite deja de producători locali de cipuri, potrivit articolului. Însă litografia rămâne veriga slabă: nu există indicii solide că producătorii din China au ajuns la producție de volum pentru scanere DUV cu imersie capabile de 45 nm și sub acest prag.

În centrul discuției este Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), înființată în 2002 și descrisă drept cel mai important producător chinez de echipamente de litografie. SMEE ar fi prezentat în 2023 un sistem DUV cu imersie, SSA/800-10W, despre care s-a spus că poate produce cipuri până la 28 nm, însă Tom’s Hardware afirmă că nu există dovezi că acest echipament ar fi intrat în producție de masă sau că ar fi fost adoptat de un producător pentru fabricarea de volum. Publicația argumentează că, dacă ar fi existat livrări în 2023–2024, ar fi apărut măcar semnale indirecte (înregistrări de achiziție/acceptanță, comenzi de componente, anunțuri de angajare, lucrări științifice).

În iulie au reapărut relatări despre scanere DUV cu imersie fabricate în China și produse în masă de Shanghai Aishengna Electronic Technology Group (unitate sau afiliat SMEE), însă, din nou, fără dovezi și fără detalii despre nodurile vizate sau capacitatea de producție, potrivit articolului. În plus, materialul indică lipsa unor semne tipice pentru introducerea unui echipament nou în industrie, precum livrări de sisteme de evaluare către fabrici și rezultate preliminare de calificare a proceselor.

Ce urmează, realist, dacă apare primul scanner utilizabil

Chiar și în ipoteza apariției unui prim scanner chinez DUV cu imersie funcțional, Tom’s Hardware descrie un calendar de integrare lent: utilizare pe plachete de inginerie, comparații cu echipamentele ASML, dezvoltare de „rețete” (setări și pași de proces), identificare de probleme și feedback către producător — un proces care poate dura circa un an. Calificarea pentru producție de masă ar mai adăuga cel puțin încă un an pentru un singur strat, și mai mult pentru mai multe straturi, astfel că introducerea într-un flux existent ar lua „cel puțin doi ani, dar probabil mai mult”.

În lipsa unor indicatori „reali” că producătorii chinezi pot fabrica și livra astfel de scanere către clienți, concluzia rămâne cea din nota UBS: industria de litografie a Chinei ar fi, în acest moment, la un nivel comparabil cu cel al ASML din mijlocul anilor 2000.