Știri
Tag: litografie euv
ASML anunță o creștere majoră a puterii sursei de lumină EUV, care ar putea permite producerea cu 50% mai multor cipuri până în 2030 , potrivit Reuters , într-o mișcare menită să consolideze poziția companiei olandeze în fața rivalilor din SUA și China. ASML, singurul producător mondial de echipamente comerciale de litografie cu ultraviolete extreme (EUV), a reușit să crească puterea sursei de lumină de la 600 la 1.000 de wați. Avansul tehnologic permite fabricilor de cipuri să reducă timpul de expunere a plăcilor de siliciu, ceea ce duce la creșterea numărului de cipuri produse pe oră și la scăderea costului per unitate. Compania estimează că, până la finalul deceniului, fiecare echipament ar putea procesa aproximativ 330 de plăci de siliciu pe oră, față de 220 în prezent. În funcție de dimensiune, fiecare placă poate conține de la câteva zeci la mii de cipuri. Tehnologia EUV funcționează prin bombardarea unor picături microscopice de staniu topit cu un laser puternic cu dioxid de carbon, generând plasmă la temperaturi mai ridicate decât suprafața Soarelui și emițând lumină cu lungimea de undă de 13,5 nanometri. Noutatea constă în dublarea numărului de picături la circa 100.000 pe secundă și utilizarea a două impulsuri laser pentru modelarea plasmei, în loc de unul singur. Oficialii ASML afirmă că există o traiectorie clară către 1.500 de wați și chiar 2.000 de wați în viitor, fără obstacole fundamentale. Anunțul vine într-un context geopolitic tensionat: Statele Unite au restricționat exporturile către China, iar start-up-uri americane încearcă să dezvolte alternative locale. Prin această inovație, ASML încearcă să-și păstreze avantajul tehnologic într-un sector esențial pentru producția de cipuri avansate utilizate de companii precum Taiwan Semiconductor Manufacturing Company și Intel. [...]

România intră ca partener în linia-pilot europeană NanoIC pentru cipuri avansate , potrivit Profit.ro , odată cu inaugurarea proiectului la IMEC Leuven (Belgia), în prezența vicepreședintei executive a Comisiei Europene, Henna Virkkunen, a premierului belgian Bart De Wever și a ministrului-președinte al Flandrei, Matthias Diependaele. Participarea României este asigurată prin Centrul pentru Știința Suprafeței și Nanotehnologie ( CSSNT ) din cadrul Universității Politehnica din București. NanoIC este prezentată de Comisia Europeană drept prima instalație europeană care implementează cea mai avansată mașină de litografiere cu ultraviolete extreme (EUV, tehnologie folosită pentru „gravarea” circuitelor pe cipuri la dimensiuni foarte mici), cu accent pe proiectarea și fabricarea de cipuri utilizând tehnologii de peste doi nanometri. Miza este reducerea dependenței Europei într-o industrie dominată în prezent de SUA și Asia și accelerarea trecerii de la cercetare la producție comercială de cipuri de ultimă generație. Din perspectiva României, proiectul contează prin accesul direct la o infrastructură de vârf și prin integrarea într-un consorțiu european care țintește întărirea lanțului de aprovizionare cu semiconductori. Linia-pilot funcționează pe principiul accesului liber, ceea ce înseamnă că întreprinderi nou-înființate, cercetători, IMM-uri și organizații mari pot utiliza facilitățile NanoIC, într-un cadru menit să sprijine și păstrarea, respectiv atragerea de talente în Europa. Parteneriatul NanoIC reunește mai multe organizații de cercetare și inovare, iar România apare explicit între acestea, prin CSSNT-UPB: IMEC (Belgia) – gazda proiectului CEA-Leti (Franța) Fraunhofer (Germania) VTT (Finlanda) CSSNT-UPB (România) Institutul Național Tyndall (Irlanda) Finanțarea totală a NanoIC este de 2,5 miliarde de euro, din care 700 de milioane de euro provin din fonduri UE, alte 700 de milioane de euro de la guverne naționale și regionale, iar restul de la compania olandeză ASML și alți parteneri din industrie. În context mai larg, NanoIC este una dintre cele cinci linii-pilot ale Actului european privind cipurile (alături de FAMES, APECS, WBG și PIXEurope), care însumează o investiție combinată la nivel UE și național de 3,7 miliarde de euro; deschiderea NanoIC urmează inaugurării FAMES, la 30 ianuarie, iar intrarea în operare a acestor infrastructuri este descrisă ca un pas esențial pentru consolidarea suveranității și bazei industriale europene în semiconductori. [...]